實驗室名稱 | 實驗室位置 | 負責教師 | 聯絡電話 |
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超精密加工實驗室 | TB108 | 蔡宏榮教授 | 22255 |
本系超精密加工實驗室自2003年成立至今,不斷積極地擴充各項軟硬體設施及高精度量測裝置,以滿足教學研究上的需求。本實驗室在研究方面除了針對各種先進高精度研磨加工製程,探討操作參數與研磨界面現象對製程結果之影響,並開發相關的理論模式,並將目前的研究成果運用於高精度研磨製程衍生技術上。
本實驗室兼顧學理探討與工程技術的開發,由基礎學理的瞭解來改善產品的設計與相關製程。所發展之學術領域主要以表面接觸力學與磨潤學為主,並應用於各種高精度加工製程,如半導體製程之化學機械平坦化製程( Chemical Mechanical Planarization, CMP )及金屬拋光製程( Metal Polishing ),探討操作參數與界面現象對製程之影響,並將研究成果運用於各種高精度研磨製程衍生技術上,如化學機械平坦化後清洗製程( Post-CMP Cleaning Process )、研磨終點監測技術( Endpoint Detection Technology )及研磨墊再整修機制( Polishing Pad Conditioning )。
在教學方面,本實驗室針對精密加工及高精度拋光製程提供設備及經驗對精密製造與量測等相關 課程進行支援,結合研究所的基礎理論課程,使研究生與大學生的理論知識能與實 驗量測互相獲得應證,並介紹精密加工在現代工程領域中所佔有之核心地位培養學 生具備精密製造之理論基礎及熟悉工業應用實例。
本研究室在精密研磨的理論開發方面 ,目前已發展結合流體的部液動理論和固體的表面微觀接觸力學,並將其應用於探討實際高精度研磨製程中研磨液的液動效應、研磨工件/ 研磨墊間的表面接觸效應和接觸溫度 。在實驗方面,利用自行設計的高精度研磨測試平台結合現有量測設備包括紅外線遙測溫度熱像分析儀、Fluke資料擷取系統和表面粗度儀等設備檢測高精度研磨製程中研磨界面現象及研磨結果,並與理論結果相互對照,以持續修正改良現有的理論模式。目前本實驗室的具體研究成果如下
- 開發考慮顆粒效應之微觀接觸力學
- 開發結合顆粒流體力學,並考慮研磨界面顆粒效應之化學機械平坦化研磨溫昇及材料移除率理論模式
- 探討高精度研磨製程中研磨液液動效應、工件/研磨墊間表面接觸現象和接觸溫度
- 自行設計高精度研磨測試平台,並結合現有量測設備包檢測高精度研磨製程研磨界面現象及研磨結果